天津晶岭微电子材料有限公司是于2005年5月由天津新技术产业园区晶岭高科技有限公司等投资建立的高新技术企业（于2006年4月批准为高新技术企业）。2005年5月在天津华苑新技术产业园区注册，注册资金为350万。企业同河北工业大学微电子材料研究所紧密结合，有一支主要由博士、硕士 组成的高水平的技术与管理团队。公司有极强的创造能力，至今已经取得31项国家发明专利和5项国际发明奖，已成为华苑高新技术产业园区发明专利重点企业。研究所承担博士后、博士、硕士人才培养，并承担产品与技术创新的研究开发任务，企业需要的新技术新产品，由所研究开发，企业承担新产品的产业化、商品化。在产品研发与产业化过程中培养国家急需的高层次复合型人才，真正形成产、学、研一体的高创造力、高技术、高利润，强竞争力的知识经济摸式的高新企业集团。现公司主营微电子、光电子的超精密加工材料。系列产品已经通过IS9001认证和SGS环境认证。 

产品展示
集成电路CMP系列抛光液
多层铜布线抛光液（配比1：1弱碱性）型号FAO/mcwⅡ
多层铜布线抛光液（配比1：1碱性） 型号FAO/mcwⅠ
器件CMP系列抛光液
抛光液 FAO/IS209
抛光液 FAO/IS209
砷化镓抛光液 FAO/AS200
SiO2介质抛光液（配比1:1） FAO-ls501
硅衬底抛光液（大粒径） FAO/bulk211
硅衬底抛光液（配比30：1） FAOⅡ/CS209
硅衬底抛光液（配比25：1） FAOⅡ/CS209
硅衬底抛光液（配比15：1） FAOⅠ/cS210
硅衬底抛光液（配比10：1） FAOⅠ/cS209
光电材料抛光液
电子玻璃抛光液（配比15） FAO/eg210
蓝宝石抛光液 FAO/SP209
金属抛光液
TA抛光液 FAO/ts304
硬盘NIP抛光液 FAO/ds303
W-Mo合金抛光液 FAO/wm302
Mg-Al合金抛光液 FAO/mg301
清洗剂，活性剂等产品
硅多晶清洗液 FAO/ps502
硅单晶清洗液 FAO/sc501
螯合剂 FAO/cf301
活性剂（2﹪-5﹪）（五种规格） FAO/aa201
切削液（2‰-5‰） FAO/cf200
LCD清洗剂（Ⅱ型）（配比15） FAO/lcⅡ
LCD清洗剂（Ⅰ型）（配比15） FAO/lcⅠ
LCD玻璃倒角清洗液体（5‰） FAO/cc105