近日， 由七星电子（002371）全资子公司北方微电子自主研发的8英寸深硅等离子刻蚀机HSE200L正式进入马来西亚SilTerra公司，为其提供 MEMS和Power Device等工艺制程的解决方案。SilTerra公司是国际领先的8英寸晶圆代工企业，为包括欧美在内的国际知名企业提供代工服务，长期排名世界前十。

北方微电子介绍，公司新一代深硅刻蚀机HSE200L以全新的设计理念来实现高深宽比刻蚀工艺，刻蚀速率快，工艺性能优异，设备多项关键指标达到或超过国际先进水平，全面满足MEMS领域刻蚀工艺要求。

此外，北方微电子称，2016年公司在集成电路、先进封装、半导体照明等多个领域的Etch、PVD和CVD设备等多款产品也已成功进驻海外。

10月25日，科技部原副部长曹健林在“第十五届中国国际半导体博览会暨高峰论坛”上透露，中国首套高端光刻机曝光系统，于本月在整机环境下通过验收测试。

据悉，IC制造高端光刻机被誉为“现代光学工业之花”，而物镜系统则是光刻机的核心部件，是光刻机技术难度的集中体现。早在2007年，国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”（简称：02专项），启动90nm节点曝光光学系统立项论证；2009年，该项目获批启动，其中，物镜系统和照明系统分别由两个研究所负责。

按照规划，该项目一期投入近6亿元，拟建立物镜超精密光学研发团队及研发平台。2016年9月，物镜系统完成交付；2017年4月，90nm节点 NA0.75 ArF照明系统成功交付；今年10月，该曝光光学系统在整机环境下通过验收测试。

曹健林表示，高端光刻机曝光光学系统的产业化准备已经就绪，长春国科精密光学技术有限公司早于2014年8月成立，该公司对超精密制造设备总投资约2亿元，扩产后将达5亿元。