膜厚仪 更新时间：2011-05-27 18:30

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膜厚仪是薄膜厚度测量仪的简称，是一种用来在线并定量的测量透光或者半透光的各种薄膜厚度的仪器仪表，通常采用光干涉原理测量薄膜厚度。

膜厚仪的作用

• 可应用于在线膜厚测量,测氧化物,SiNx,感光保护膜和半导体膜.也可以用来测量镀在钢,铝,铜,陶瓷和塑料等上的粗糙膜层. 薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉,干涉的发生与膜厚及折光系数等有关,因此可通过计算得到薄膜的厚度.光干涉法是一种无损,精确且快速的光学薄膜厚度测量技术,薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。

膜厚仪的特点

• 1,可以测量多层膜中每一层的厚度

  2,三维的厚度型貌

  3,远程控制和在线测量

  4,可做150mm or 300mm 的大范围的扫描测试

  5,丰富的材料库:操作软件的材料库带有大量材料的n和k数据,基本上的常用材料都包括在这个材料库中.用户也可以在材料库中输入没有的材料.

  6,软件操作简单,测速快:膜厚测量仪操作非常简单,测量速度快:100ms-1s.

  7,软件带有构建材料结构的拓展功能,可对单/多层薄膜数据进行拟合分析,可对薄膜材料进行预先模拟设计.

  8,软件带有可升级的扫描功能,进行薄膜二维的测试,并将结果以2D或3D的形式显示.软件其他的升级功能还包括在线分析软件,远程控制模块等

膜厚仪的技术参数

• 厚度测量:10纳米-250微米; 可以选择250nm-1100nm间任一波长,也可在该范围内选择多波长分析;

  波长: 250-1100nm

  厚度范围: 10nm--250m

  分辨率: 0,1nm

  重复性: 0,3nm

  准确率: <1[%] (100nm--100m)

  测试时间: 100ms -- <1s

  分析层数: 1-- 4

  离光纤距离: 1-5mm

  离距离: 5mm-- 100mm

  入射角度: 90°

  光斑点大小: 400m

  微光斑手段: 与显微镜联用,1-- 20m with Microscope 10x/20x/50x Magnificatiand MFA-Adapter;

  光纤长度: 2m (other lengthes on request)

  接口: USB 1.1 (RS-232)

  电源需求: 12 VDC@1,2A, 220 VAC 50/60 Hz

  尺寸: 180mm x 152 mm x 263mm

  总量: 3.5 kg

膜厚仪的使用场合

• 膜厚仪主要应用于晶片或玻璃表面的介电绝缘层(SiO2, Si3N4, Photo-resist, ITO, ...); 晶片或玻璃表面超薄金属层(Ag, Al, Au, Ti, ...); DLC(Diamond Like Carbon)硬涂层;SOI硅片; MEMs 厚层薄膜(100m up to 250m);D/CD 涂层; 光学镜头涂层; SOI硅片; 金属箔; 晶片与Mask间气层; 减薄的晶片(< 120m); 瓶子或注射器等带弧度的涂层; 薄膜工业的在线过程控制等等许多场合。