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.离心喷淋式化学清洗抛光硅片

来源:华强电子网 作者:华仔 浏览:534

标签:

摘要: 系统内可按不同工艺编制贮存各种清洗工艺程序,常用工艺是:fsi“a”工艺: spm+apm+dhf+hpmfsi“b”工艺: spm+dhf+apm+hpmfsi“c”工艺: dhf+apm+hpmrca工艺: apm+hpmspm .only工艺: spmpiranha hf工艺: spm+hf上述工艺程序中:spm=h2so4+h2o2 4:1 去有机杂质沾污dhf=hf+d1.h2o (1-

系统内可按不同工艺编制贮存各种清洗工艺程序,常用工艺是:
fsi“a”工艺: spm+apm+dhf+hpm
fsi“b”工艺: spm+dhf+apm+hpm
fsi“c”工艺: dhf+apm+hpm
rca工艺: apm+hpm
spm .only工艺: spm
piranha hf工艺: spm+hf
上述工艺程序中:
spm=h2so4+h2o2 4:1 去有机杂质沾污
dhf=hf+d1.h2o (1-2%) 去原生氧化物,金属沾污
apm=nh4oh+ h2o2+d1.h2o 1
型号 厂商 价格
EPCOS 爱普科斯 /
STM32F103RCT6 ST ¥461.23
STM32F103C8T6 ST ¥84
STM32F103VET6 ST ¥426.57
STM32F103RET6 ST ¥780.82
STM8S003F3P6 ST ¥10.62
STM32F103VCT6 ST ¥275.84
STM32F103CBT6 ST ¥130.66
STM32F030C8T6 ST ¥18.11
N76E003AT20 NUVOTON ¥9.67