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摘要: 金属薄膜材料铂pt-2:对于铂膜的早期研究是在相当高的压强(2~10torr)下以极低的淀积率制备的铂膜的研究,其结果指出热蒸发的铂膜在真空紫外区的性能是不好的。sabine用钨丝蒸发获得了铂膜。其实验表明,在一定的温度下足以产生一个可观的淀积速率(在距蒸发源30cm的基底上可达1~10a/s)。这一方法的不足之处是钨会溶解在熔化了的铂中,且随温度的升高溶解量也增加,往往会在未完成铂膜的淀积时钨丝
金属薄膜材料铂pt-2:对于铂膜的早期研究是在相当高的压强(2~10torr)下以极低的淀积率制备的铂膜的研究,其结果指出热蒸发的铂膜在真空紫外区的性能是不好的。sabine用钨丝蒸发获得了铂膜。其实验表明,在一定的温度下足以产生一个可观的淀积速率(在距蒸发源30cm的基底上可达1~10a/s)。这一方法的不足之处是钨会溶解在熔化了的铂中,且随温度的升高溶解量也增加,往往会在未完成铂膜的淀积时钨丝便断裂了。1963年jacobus等人第一次应用射频蒸发源制备了铂膜,并在真空紫外区几个孤立的波长处对铂膜进行了系统的研究。他们在584
、736
和1216
处测量了铂膜的反射率和光学常数,并发现铂膜的反射率对基底温度具有强烈地依赖作用,而反射率对于压强和淀积速率的依赖性几乎可以忽略。1968年yu等人报道了584
~20rjtm波长范围内铂膜的反射率和光学常数,他们所测量的铂膜是用电子束蒸发镀制于热基底上的。而hass和hunter对于铂膜垂直入射下反射率的测量已扩展到150~2000
的光谱区域。weaver则应用了上述结果对铂膜的光学性质进行了专门的分析。
图1和图2给出了淀积在300℃和40c基底上铂膜的复介电常数亡和电衰减函数与波长间的函数关系。由图可以看出,在大约400a处,衰减函数具有最大值而∈1、和∈2与波长间的关系本质上是相同的。其最主要的差别是衰减函数的形状。淀积于40℃基底上的铂膜的衰减函数最大值是相当宽的,并且在最大值的长波边上具有一个钝边,这个钝边对于淀积在300℃基底上的铂膜是被抑制的,且其最大值比前者的最大值为大。
图1 淀积在300℃基底上的铂膜介电常数的实数部分∈1和虚数部分∈2及电衰减函数2nk/(n2+ k2)2与波长间的函数关系
图2 淀积在40℃基底上的铂膜的介电常数的实数部分∈1和虚数部分∈2及电衰减函数2nk/(n2+ k2)2与波长间的函数关系
图3给出了真空蒸镀的300厚的铂膜在585-2200
波段的反射率。在这一波段中铂膜是金属反射膜中具有最高垂直入射反射率的膜层,真铂膜的反射率和所应用的蒸镀方法有关,图4给出了用感应加热法和钨丝电阻加热法制备的铂膜,在真空紫外区域中反射率的比较。
由电阻加热法制备的铂膜是制备于100℃基底上的,其淀积速率为在23s时间内淀积完成80~90厚的铂膜由图可以看到,在584
和1216
处,此膜具有与感应加热法所制备的铂膜相同的反射率值24%。由感应加热法制备的铂膜是淀积在286℃基底上的,铂膜厚度为140
。用同种方法淀积于相同温度基底上45
厚的几个铂膜,由测定其垂直反射率而确定的膜光学常数由表1铂膜的光学常数给出。
表1铂膜的光学常数λ()nkr(%)5840.971.0321.57351.080.9712.812161.281.1621.7
图3 真空紫外区300厚的铂膜的反射率与波长间的函数关系
图4 真空紫外区,由感应加热法和电阻加执津蒸镀于玻璃基底上的pt膜的反射率光谱的比较
获得具有高真空紫外反射率铂膜时的最重要条件是淀积铂膜时的基底温度,相比较之下淀积速率的影响处于次要地位。图5给出了基底温度和淀积速率对铂膜在λ= 584处反射率的影响。由图可以看到,在较高温度基底上能获得较高的反射率,而且能使铂膜与基底产生较好的附着力。也可以看出基底加温存在一个大约为400℃的上限值。淀积于室温基底上较厚的铂膜(400500
),往往呈现龟裂和脱皮的现象,而在室温下淀, 积于玻璃基底上较薄的铂膜则不产生此种现象。
图5 用惑应加热法蒸发镀于玻璃基层底上厚度为120~160的铂膜,在λ=584
处的反射率与基底温度和淀积速率间的函数关系
许多金属膜在真空紫外区的反射率都强烈地依赖于淀积速率,这主要是由于这些金属在蒸镀过程中与真空室中残余气体起化学反应造成的。由于金属铂化学上的惰性,铂膜真空紫外区的反射率与淀积速率的关系并不大。由图5可以看出;仅当淀积速率相当低时,其反射率才稍许下降。
图6 在λ=584处,淀积于玻璃基底上铂膜的反射率与膜厚间的函数关系
--- 由444厚的铂膜测得的光学常数进行计算所得的结果;
…… 以3~15/8的速率淀积于286℃基底上的铂膜测量的结果
图7 在λ=5500处测得的沉淀于几种温度基底上的铂膜的透射率与膜厚间的函数关系,曲线为多次实验的平均值
在波长584、735
和1216
处不透明铂膜的反射率要比半透明铂膜的反射率稍低。图6给出了铂膜在λ= 584
处的反射率与淀积在286℃基底上铂膜厚间的函数关系。囱中的点表示的是实验数据,可以看到随着铂膜厚度的增加,其反射率则下降。在膜厚为450
时,其反射率下降的最大值为10%左右。由曲线还可看出,反射率峰值产生在铂膜厚度为140
左右。实验上观察到的该厚度铂膜的反射率比不透明铂膜的反射率的增加值约为理论增加值的23倍。对这种现象的一种可能的解释是在λ= 584
处,较厚的铂膜具有较大的散射而造成的。玻璃上铂膜在λ= 584
处具有最高反射率的膜厚范围约在120140
以内。同样在该厚度范围内的铂膜,其在波长735
和1216
处也具有最高的反射率值。铂膜的这一厚度相当于在λ=5500
波长处具有10%~13%透射率时铂膜的厚度值,这一情况可由图7看出。
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型号 | 厂商 | 价格 |
---|---|---|
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STM32F103RCT6 | ST | ¥461.23 |
STM32F103C8T6 | ST | ¥84 |
STM32F103VET6 | ST | ¥426.57 |
STM32F103RET6 | ST | ¥780.82 |
STM8S003F3P6 | ST | ¥10.62 |
STM32F103VCT6 | ST | ¥275.84 |
STM32F103CBT6 | ST | ¥130.66 |
STM32F030C8T6 | ST | ¥18.11 |
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