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KLA-Tencor 4月16日对外宣布：经过成功的 beta 测试之后，TeraScanHR 系统已在Toppan Photomask最先进的 45 纳米光掩膜生产线中安装上线。

TerascanHR 系统于 2007 年 3 月推出，是业界首款生产级 45 纳米光掩膜检测系统。该系统具有超凡的分辨率，可捕获 45 纳米节点上的细微缺陷和极其复杂的 OPC(Optical Proximity Correction) 结构，因此在关键性掩膜版生产中具有极高分辨率。这一新型系统可为客户提供广泛的像点尺寸选择，适合从 130 纳米到 45 纳米的多代芯片的掩膜版。

Toppan Printing Co., Ltd. 半导体解决方案事业部高级经理 Akihiro Nagata 指出，“在开发和生产先进的掩膜版过程中，检测技术的采用是最优先考虑的问题之一。 通过综合两家公司的先进技术，我相信我们能够为我们的芯片生产商客户提供先进的掩膜版，帮助他们在最先进 IC 的开发和生产中提高效率。”

“在 TerascanHR 系统的首次客户 beta 评估中，我们与 Toppan 之间的协作极具价值，这不仅仅由于 Toppan 作为全球最先进掩膜版生产商之一所拥有的技术经验，同时也因为它拥有广泛的掩膜版类型和器件设计，”KLA-Tencor 掩膜版和光掩膜检测事业部副总裁兼总经理 Harold Lehon 表示。“Toppan 在高要求的实际掩膜生产环境中检验了 TerascanHR 系统的先进特性，并证明了我们的技术对 45 纳米及以下掩膜版的有效性。”