据Semiconductor Reporter网站报道，Bede X-ray Metrology近期宣布，公司已经加入了与研究机构IMEC的合作协议，将合作研究应用X-ray实现45nm工艺及以下的新型半导体材料制程控制中的计量。

一套Bede的X-ray计量系统将安装于IMEC 300mm的研发工厂，用于新型半导体材料的表征。该系统在一个平台上集成了高分辨率X-ray衍射(HRXRD)、X-ray衍射(XRD)和X-ray反射(XRR)技术，应用于制程的前端和后端工艺控制，包括应力硅、高k栅介质、金属栅、互连和低k隔层介质(ILD)等。

我们很高兴IMEC选择了BedeMetrix-L，我们正在与全球领先的研发中心合作，Bede销售与市场主管Frank Hochstenbach表示，这将使我们在最先进的制程技术和先进材料方面受益。同时，我们也将为IMEC伙伴在制程控制方面提供多种解决方案。

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