日前，据称应用材料公司(Applied Materials Inc)和Varian Semiconductor Equipment Associates Inc都悄然推出新的离子注入机(ion implanter line)。分析师表示，两家公司的首台设备都在英特尔进行评估，争夺45纳米节点离子注入设备订单。


英特尔决定其45纳米节点高速流离子注入机的过程已进入尾声，Pacific Crest Securities Inc分析师Mark Bachman表示，应用材料的Quantum X Plus和Varian的VIISta HCI进入了候选阵容。

据报道，应用材料和Varian在几个季度之前分别将各自的设备提供给英特尔，但两家芯片设备供应商甚至还没有公开宣布推出产品。Bachman说，英特尔的流离子注入机订单价值为6,600万-9,200万美元之间。通常，每座晶圆厂大致需要22套流离子注入设备。他补充到，英特尔计划最多建设两座45纳米节点晶圆厂。

当前，英特尔同时使用应用材料和Varian的流离子注入机。这位芯片巨人在65纳米节点高速应用方面采用了应用材料的Quantum X，而在65纳米中速和高能应用主要使用Varian公司的流离子注入机。

预计英特尔将最终选用Varian的45纳米中速流离子注入机，但是高速业务还未决定。Bachman认为，Varian有可能从应用材料手中攫取英特尔的部分高速应用订单。Bachman说，“我们相信，Varian有可能赢得英特尔45纳米高速注入机50-70%的订单，尽管应用材料推出更具竞争力的价格。”

如果Varian夺取了英特尔的部分高速业务订单，将对应用材料带来沉重打击，后者是这家芯片巨人的高速注入机供应商。

2004年，应用材料携Quantum X杀入单晶圆流离子注入机市场，这款高吞吐量设备据称功率范围介于200eV到80keV。该设备代表了应用材料的策略改变，也宣告进入了基于批量处理技术的流离子注入机时代。到目前为止，应用材料已付运了总共约100台Quantum X设备，Bachman说，“英特尔是主要买家，我们统计光英特尔就采购了65台高速业务设备。”

他表示，“我们大致了解到，AMD、美光、富士通、台积电(TSMC)、特许半导体和三星也购买了该设备。在45纳米节点领域，如果应用材料丢掉英特尔这个主要客户，将对该公司这部分业务造成打击，目前这部分业务占应用材料总体收入不到5%。”

为了保住在英特尔和其它公司的订单，应用材料推出了Quantum X Plus。据称这款单晶圆工具是Quantum X的更新和改进版本，具有更快的灌注能力。竞争对手Varian则凭借新的VIISta HCI工具来竞争英特尔这个大客户，“此外，Varian还有可能从日本从日本NEC、东芝和索尼手中获得新订单。从应用材料手中夺走台积电订单后，证明Varian的产品具有相当竞争力。” 据称，VIISta HCI是高速离子注入设备VIISta HC的更新版本。VIISta HC于2005年推出，据Varian表示功率范围为200eV到60keV。

目前，Varian已成为全球最大的高速离子注入设备供应商。Bachman表示，2004年Axcelis Technologies是这个领域的领导厂商，拥有40%份额，应用材料以38%紧随其后，Varian市场份额为22%。

而到了2005年，Varian在高速领域的市场份额达到38%，其后是应用材料35%， Axcelis份额跌至27%。他说，“Axcelis在进军单晶圆工具市场步伐缓慢。”

展望未来，所有供应商都将面临挑战，离子灌注设备在32纳米节点需要进行技术革新，这促使众厂商不遗余力开发新技术。Bachman表示，目前应用材料、Axcelis、Nissin和Varian具备45纳米节点技术，能否更近一步是未来成功的标志。