据日经BP社网站报道，日本凸版印刷公司和IBM将扩大双方在有关半导体制造用光掩膜的合作开发业务。凸版印刷是全球第一大光掩膜厂商，其市场份额维持在25%左右。双方早在2005年就开始了推进45nm产品的开发工作，今后将把合作开发范围扩大到32nm产品领域。

作为开发的第一阶段，将对掩膜材料和制造技术等进行评估，确定开发方向。在2008年6月之前确定对第二阶段以后的开发方式等确定工作方针。开发工作将在凸版印刷朝霞工厂（埼玉县新座市）和IBM伯灵顿工厂（弗吉尼亚州Essex Junction市）同步推进。在32nm产品开发工作中，与开发45nm产品时一样凸版印刷计划安排12名开发人员。