真空紫外波长光学测量解决方案供应商Metrosol公司将在SEMICON West上推出最新的ES-7000自动在线测量系统。ES-7000是一款在真空紫外波长（120 nm以下）内可进行非破坏性反射光谱测量的设备，是业界唯一一款可以同时提供薄膜厚度测量与成分测量的工具。ES-7000测量膜厚可达10A以下，并对于N含量及其他低原子序数元素含量敏感。

ES-7000具有灵活标准的结构，在先进薄膜工艺比如SiON和HfO2高K介质薄膜中，生产能力可达150片晶圆每小时。另外这套系统具有对超薄薄膜进行实时测量的能力，对于复杂半导体结构中高K介质薄膜、金属及混合材料堆垛可以得到精确测量结果。

半导体制造商目前正在致力于改变栅薄膜成分来满足45nm及以下节点性能需求。业界正在采用两种方案，其一为增加SiON薄膜N含量，另一种是趋向于更加复杂的HfSiOx高K介质堆叠。不论那种方案，ES-7000平台所拥有非破坏解决方案均可适用于这些关键测量。

Metrosol公司总裁Kevin Fahey表示，ES-7000系统分析能力敏感、操作简易、吞吐量高、成本价值低、性能可靠。相对于实验室用分析工具，ES-7000成本仅为其三分之二，生产能力却为其十倍，平均故障间隔时间（MTBF）也延长了足足五倍。ES-7000是业界目前生产能力最强的测量工具。

ES-7000将在今年秋季发货.