据日经BP社报道，半导体曝光用激光光源大型厂商美国Cymer7月17日（美国时间）在“SEMICON West 2007”上宣布，曝光装置大型厂商荷兰ASML在EUV（Extreme UltraViolet，远紫外光）光刻设备的量产用光源上，采用了Cymer的LPP（Laser Produced Plasma，激光等离子体）技术。Cymer已与ASML签订了EUV光源供货的多年多台合同。最初的EUV光源的供货也将于2008年底开始。

Cymer的共同创始人兼首席执行官Bob Akins表示，Cymer在07年2月举办的“SPIE Advanced Lithography 2007”上发布了使CO2激光器靠近锡滴，让EUV发光的LPP光源，中间聚光点（IF）的输出功率达到了25W。其后，在上个月LPP光源的输出功率达到了50W。目前，该公司的开发计划——07年底输出功率达到100W正在按照时间表如期推进。从时间和规格来看，于08年供货的100W的EUV光源很可能会配备到ASML的β机上。