据日经BP社报道，日本牛尾电机、荷兰皇家飞利浦电子及德国Jenoptik L.O.S. GmbH （Jenoptik Laser, Optik, Systeme GmbH）三家公司于10月30日在札幌举办的“2007 International EUVL Symposium”上宣布，将就共同开发新一代EUV（极端远紫外，extreme ultraviolet）曝光所需的光源进行业务合作。并计划08年在欧洲成立合资公司。目前还没有确定公司名称及出资比例等具体事宜。

此前，牛尾电机和Jenoptik各出资50％成立的德国Xtreme technologies GmbH、荷兰飞利浦Extreme UV GmbH两家公司都在分别独立开发DPP（Discharge Produced Plasma）方式的EUV光源，两者作为对手竞争非常激烈。

但由于DPP光源的功率提高速度减慢，近来LPP（Laser Produced Plasma）方式的EUV光源开发加快。例如，著名曝光设备厂商荷兰ASML已决定将美国西盟（Cymer）使用CO2激光的LPP光源用作量产用光源。

估计此次DPP阵营的两强--Xtreme technologies和飞利浦Extreme UV将携手对抗LPP阵营。Xtreme technologies的光源已配备到尼康的α机“EUV1”上，飞利浦Extreme UV的光源已配备到ASML的α机“Alpha Demo Tool”上，将借助这一供货优势加快β机用光源的开发。