摘要： 据日经BP社报道，富士胶片将在液浸ArF用光刻胶的开发中引入支持45nm和32nm工艺的液浸ArF曝光设备。这是该公司首次引入液浸ArF曝光设备。该设备将与涂布显像机一起，安装在静冈县榛原郡的电子材料研究所。富士胶片没有公开该设备的提供厂商。 富士胶片06年12月开发成功了可防止液浸曝光时光刻胶成分析出的无顶涂层光刻胶FAiRS-9000系列，今后仍将加大力度推进半导体材料领域的开发。该公司在液