据日经BP社网站报道，日本JSR在将折射率维持在1.64的情况下成功地使液浸ArF曝光用高折射率液体的透射率提高到了超过纯水的水平。作为提高液浸曝光设备成像能力的手段，高折射率液体的导入受到了业界的广泛关注。但过去由于液体透射率低，因此有人担心曝光设备的处理量会因此而下降。

JSR过去一直在推进旨在实现折射率1.65左右的高折射率液体的开发。不过，虽说折射率的目标实现了，但波长193nm光线的透射率却未能达到纯水的水平，因而也就成了开发工作的一个课题。

JSR此次开发的材料透射率达到了99.5%，超过了纯水99.2%的透射率。另外，此次开发的液体在所开发的系列材料中吸氧性较低，即使接触到在空气中，其性能也比较稳定。另外，由于蒸汽压低，因此不易产生热解，能够适用于实际应用中所必须的循环系统。

今后将在设备厂商和大型LSI厂商的协作下继续进行实用化研究，同时还将推进上层保护膜和高折射率光刻胶等产品的开发，以及折射率超过1.7的高折射率液体的开发。此项技术在美国举办的曝光技术国际会议“SPIE Advanced Lithography 2007”上进行了详细发表。