据日经BP社报道，检查设备厂商日本Lasertec投产了支持65nm及以下工艺半导体制造的光掩膜缺陷检查设备“MATRICS（Mask TransmissionReflection Image Comparison System）系列”，将于12月开始接受预订。利用此新产品能以低成本对使用相移（Phase Shift）和OPC（光学衍射近似修正）的高级掩膜进行检查。

现在，半导体制造中使用的掩膜随着相移和OPC的普及，图案逐渐向微细化、复杂化发展。另外，ArF曝光使掩膜上存在可生长异物的问题明显起来，有必要对掩膜进行定期的检查。

此次的MATRICS系列使用248nm的水银氙气灯做为光源，与激光光源相比，降低了运行成本，提高了可维护性。还能够检查贴有护膜的掩膜。采用了电源和控制系统内置的小型化设计（1555mm×2555mm）。可以选配掩膜自动搬运功能。

Lasertec自1976年开始开发和销售光掩膜缺陷检查设备。此次的MATRICS系列把原来的技术进行了大更新提高了检查的灵敏度。MATRICS系列已投产了多晶元模式专用的“X651”、单晶元模式专用的“X652”、多晶元和单晶元模式兼用的“X653”3个型号。