据消息称，日本半导体光刻设备供应商佳能（Canon Inc.）由于成本高昂，将终止高端光刻设备的研发。

据报道，尽管佳能公司已经在2007年推出了193nm浸润式设备，但是至今却仅安装了一套。消息称，该套设备存在某种技术问题，市值450亿美元的相机及办公设备巨头却无法攻下此市场。

分析师称，当光刻节点缩小至22nm时，193nm浸润式光刻设备的价格将会翻倍达到8000-9000万美元每套。而深紫外（EUV）光刻设备价格将超过1亿美元。

届时，不知道有哪家芯片制造商能够买得起如此昂贵的光刻设备？那时包括光刻设备在内的整个半导体产业是否还能健康发展？无从知晓。

消息称，佳能公司对客户表示不再开发的设备包括193nm干式和浸润式光刻设备，但公司将会继续支持其现有的193nm设备，只是不再进行后续开发。

目前，佳能公司的EUV以及无掩模研发进程也停止下来。取而代之，佳能将重点投向LCD及混合制程的i-line及248nm光刻设备。

但是，佳能官方否认了传言，表示：“佳能未曾终止浸润式光刻设备的研发，并将一如既往的进行投入。”

东京MF Global分析师David Motozo Rubenstein却表示：“目前佳能主要精力是在i-line和248nm，我相信佳能将不能完成浸润式研发。”

Gartner分析师Klaus Rinnen被问及佳能193nm浸润式所取成果时，表示道：“就数据来看，并没有什么。”

过去的几十年里，佳能主要业务包括相机及办公用品，也曾表示过要抓紧光刻业务。但是近几年来在高端光刻设备上的失利，公司不得不面对严峻的形式，尤其要搞清楚一个问题：“公司是否还想要光刻业务？”
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VLSI Research总裁G.Dan Hutcheson表示，全球光刻市场还有两大供应商——荷兰ASML以及日本Nikon，佳能成功的开发出领先的193nm设备，但问题在于，客户已经从ASML或Nikon购买了一套设备，没有人愿意去更换。

至此，可以得知佳能在先进光刻设备的艰难挣扎也不足为怪了，关键还是在于未能赢得两大竞争对手。

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相关链接（英文）：http://www、eetimes、com/news/semi/showArticle、jhtml?articleID=220001088&pgno=1
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