Edwards日前宣布，将与东京电子（TEL）共同开发一款去除刻蚀工艺中氟碳气体的（perfluorocarbon，PFC）设备PA-01E，预计2009年中期研制完成。

Edwards公司CEO Nigel Hunton表示，非常高兴与TEL达成共同开发协议；PFC气体对全球变暖危害极大，我们期待与TEL的工程师合作开发，提供一种有效价格低廉的气体去除系统，减少由半导体刻蚀工艺所带来的PFC气体污染。

PA-01E系统配置有等离子体去除器件，该器件由日本Adtec Plasma Technology Co.公司开发，具有极高的转换效率及操作稳定性。另外，PA-01E系统降低了能耗及维修需求，具有比较低的CoO。此款系统在去除PFC气体的同时，还可以去除一氧化碳气体。

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